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  • 真空濺射鍍膜發(fā)展前景

    真空濺射鍍膜發(fā)展前景

    由於真空濺射EMI鍍膜工藝具有環(huán)保、低成本、高性能、設計及裝配簡單等優(yōu)點,切合了3C產品的環(huán)保性、易用性、輕量化需求,代表了EMI處理工藝的發(fā)展方向,可替代金屬屏蔽罩、導電漆噴塗EMI等原始工藝手段,目前在投影機、筆記型電腦(NB)、手機、家用電子產品等行業(yè)上已廣泛採用,應用發(fā)展前景非常廣闊…… 

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